Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
Initialising ...
山本 忠利; 大塚 徳勝
Journal of Nuclear Science and Technology, 19(11), p.903 - 917, 1982/00
被引用回数:2 パーセンタイル:32.89(Nuclear Science & Technology)Kr線によるフロン系化合物の放射線損傷に関する基礎データを得るため、Kr線源282Ci(39.4mCi/cc)を用いて、CCLF(1.5kg)の回分式照射試験を行なった。照射は線源ガス圧が592Torr、温度が-30Cの下で行ない、主として吸収線量とCCLFの分解率との関係について検討した。さらに、本試験結果とCo線によるアンプル規模の照射試験結果との比較を行なった。CClFの照射試験にあたっては、あらかじめ線用の蛍光ガラス線量計を用いて、CCLFの吸収線量率の測定を行なった。その結果、次のことが明らかとなった。(1)CClFの吸収線量率は3.010rad/hである。本実験値は投入電荷法により求めた計算値と比較的よく一致している。(2)CClFの分解率、および各分解生成物の収率は吸収線量に比例する。(G=3.2)(3)CClFの分解率に関しては両試験結果の間に相違は認められないが、G値に関しては多少、相違が認められる。G値の相違は線源の違いに基づく本質的な相違ではないものと考えられる。
田中 隆一; 須永 博美; 田村 直幸; 安東 俊郎; 家田 正之*; 門谷 建蔵*
JAERI-M 9517, 42 Pages, 1981/06
臨界プラズマ試験装置JT-60の逃走電子放電で発生する硬X線にポロイダル磁場コイルが照射された場合のコイル絶縁体内の過剰電荷の挙動を主とした計算により推定した。計算は実機条件での絶縁体(エポキシ樹脂)内の吸収線量率分布、過剰電荷推積率分布の推定ならびに照射下および照射停止後の放射線誘起電導度の測定をもとにして空間電荷の挙動を解析した。その結果最も厳しい条件では20回の放電で絶縁体表面の電界強度は10MV/cmを越え、その飽和値は10MV/cm以上に達することが明らかになった。また断続照射の繰返しによる照射停止中の電荷漏洩は飽和値にあまり影響を与えないとみなされた。以上の結果から絶縁体表面近傍では局所的な絶縁破壊を起す可能性はあるが、不平等電界であるため、破壊は内部に進行しないと推論された。照射下におけるX線誘起電流と内部電界との関係についても実験的検証を行った。
山本 忠利; 大塚 徳勝
Journal of Nuclear Science and Technology, 18(4), p.300 - 307, 1981/00
被引用回数:1 パーセンタイル:24.41(Nuclear Science & Technology)非密封のKr線源ガスを加圧して反応液中に溶解させることにより照射を行う方式の照射装置を試作し、その線量測定を行った。特に反応液の吸収線量率に及ぼす線源ガス圧および照射温度の影響を実験と計算の両面から調べるとともに、放射線エネルギーの利用効率について検討を行なった。線量計には薄板の線用蛍光ガラス線量計を用い、反応液には水とメタノールを採りあげた。照射装置の規模はKr線源の量が300Ciで、反応液量は600ccである。 その結果、水の吸収線量率は線源ガス圧に比例し、かつ照射温度の低下とともに増大する。その大きさは10rad/hのオーダーである。メタノールの吸収線量率は線源ガス圧に比例するが、照射温度にはほとんど依存せず、一定である。その大きさは10rad/hのオーダーである。本装置の放射線エネルギーの利用効率は、水およびメタノールの場合、それぞれ37,65%となる。吸収線量率の実験値は投入電荷法により求めた計算値とよく一致した。
松村 太伊知; 永石 隆二; 片倉 純一*; 鈴木 雅秀*
no journal, ,
福島第一原子力発電所事故における汚染水処理では、使用済みの吸着塔付近は高線量下であり容易に近づけない環境であるが、外側から放射線等を測定することで内部の吸着核種や吸収線量の分布を評価することが期待できるため、これまで放射線輸送・遮蔽計算を用いた汚染水処理等での吸収線量や放射線分解等に関する解析的研究を進めてきた。本研究では汚染水処理の代表例として、情報が広く公開されているTMI-2事故時の汚染水処理に用いた水没式脱塩システム(SDS)に対して、SDS吸着塔内のゼオライト充填層の吸収線量と、吸着塔のスキャニングの結果と充填層内の核種分布との関係について評価を試みた。